Репортаж от Wedoany,Компания Nearfield Instruments, специализирующаяся на передовой 3D-метрологии и контроле процессов в полупроводниковой промышленности, объявила о завершении раунда финансирования серии D на сумму 380 миллионов долларов, в результате чего оценка компании достигла 1,6 миллиарда долларов. Этот раунд стал крупнейшим в истории финансирования глубоких технологий в Нидерландах.

Инвестиции возглавил новый инвестор Fidelity Management & Research Company, а также приняли участие существующие инвесторы Temasek, Walden Catalyst Ventures, Innovation Industries, M&G и Invest-NL. Катарский суверенный фонд Qatar Investment Authority (QIA) выступил в качестве нового инвестора, а существующие инвесторы TNO Ventures и ING также приняли участие в переподписке.
Nearfield планирует направить привлеченные средства на ускорение инновационной дорожной карты, создание центров передового опыта (Centers of Excellence) по всему миру и значительное расширение производственных мощностей. Кроме того, компания укрепит команду глобальной поддержки клиентов и расширит совместные исследования и разработки с мировыми производителями полупроводников. Nearfield предоставляет ключевые метрологические технологии, необходимые для High-NA EUV, GAA, архитектуры CFET и гибридного соединения 3D-интеграции. Эти технологии играют ключевую роль в масштабируемости, энергоэффективности, простоте производства и надежности следующего поколения AI-вычислений. Генеральный директор Nearfield Хамед Садегян отметил, что этот раунд финансирования свидетельствует о растущей стратегической важности метрологии и контроля в эпоху инноваций в полупроводниках, движимых AI. Nearfield, предоставляя инновационные решения для метрологии и контроля следующего поколения полупроводниковых устройств, одновременно поддерживает клиентов с высочайшим уровнем исполнительности, надежности и скорости, стремясь стать лидирующей глобальной технологической компанией в отрасли.
Управляющий партнер-основатель Walden Catalyst Ventures Сон Ён-квон заявил, что Nearfield находится на пересечении двух крупных отраслевых преобразований: быстрого расширения AI и перехода к все более сложным 3D-полупроводниковым архитектурам. По мере вступления полупроводниковой отрасли в новый критический этап, передовая метрология и контроль становятся ключевыми элементами для реализации инноваций в чипах следующего поколения, и компания полностью поддержит рост Nearfield.
Данный материал скомпилирован платформой Wedoany. При цитировании материалов, созданных с помощью искусственного интеллекта (ИИ), необходимо обязательно указывать источник — «Wedoany». В случае выявления нарушения прав или иных проблем просим своевременно информировать нас. Сайт оперативно внесёт изменения или удалит материал.Электронная почта: news@wedoany.com









