Репортаж от Wedoany，Дочерняя компания Samsung по информационным технологиям Samsung SDS (Samsung SDS) разрабатывает технологию, объединяющую квантовые вычисления и искусственный интеллект (ИИ), для моделирования и улучшения процесса литографии (lithography) в производстве полупроводников. Компания планирует протестировать эту технологию во второй половине 2026 года с помощью подтверждения концепции (PoC). В случае успеха система может быть предоставлена Samsung Electronics для использования в её полупроводниковом бизнесе.
Процесс литографии использует свет для переноса микроскопических схем на кремниевую пластину, и его точность напрямую влияет на плотность транзисторов и выход годных чипов. Производство передовых чипов зависит от прецизионных шаговых сканеров, производимых нидерландской компанией ASML, которые проецируют рисунок через маску на светочувствительный слой пластины.
Основная цель проекта — разработка алгоритмов для виртуального моделирования всего процесса до физической литографии. Квантовый компьютер отвечает за основную вычислительную нагрузку на этапе моделирования, традиционные компьютеры обрабатывают сгенерированные данные, а искусственный интеллект выявляет и исправляет потенциальные ошибки рисунка. Сообщается, что Samsung SDS уже получила часть необходимых алгоритмов и протестирует их эффективность в среде производства полупроводников на этапе подтверждения концепции. Система позволит Samsung проводить виртуальное тестирование схем до перехода к дорогостоящему физическому производству.
Точное моделирование помогает выявлять проблемы литографии на ранних стадиях, сокращать количество физических тестов, необходимых для разработки новых производственных процессов, а также снижать время и затраты на формирование рисунка и травление пластин. Выявление дефектов до производства может повысить количество годных чипов на пластину (выход годных), а более точное формирование рисунка может позволить компании размещать больше транзисторов на меньшей площади, увеличивая плотность чипов. Samsung ожидает, что сочетание квантовых вычислений, традиционных вычислений и коррекции с помощью ИИ поддержит разработку более передовых полупроводниковых процессов.
Искусственный интеллект ранее уже использовался для улучшения вычислительной литографии. Samsung заявляла, что использование платформы cuLitho от Nvidia и библиотек CUDA-X для оптической коррекции близости (OPC) повысило производительность её вычислительной литографии в 20 раз. Оптическая коррекция близости позволяет прогнозировать и корректировать возможные искажения рисунка при переносе схемы на пластину. Последний проект расширяет этот метод за счёт добавления квантовых вычислений в процесс моделирования, однако технология всё ещё находится в разработке, и её эффективность зависит от результатов запланированного подтверждения концепции.
