Репортаж от Wedoany，Калифорнийский университет в Санта-Барбаре (UC Santa Barbara, UCSB) получил грант в размере 1,15 миллиона долларов от Национального научного фонда США (NSF) на приобретение высокоскоростной 3D-системы нанопечати, основанной на технологии двухфотонной литографии. Данное оборудование расширит производственные возможности нанотехнологического комплекса UCSB (Nanofab).
Ведущим исследователем данного проекта является профессор кафедры электротехники и вычислительной техники UCSB Галан Муди, а в число соисследователей входят четыре со-руководителя: Марли Дьюи с кафедры биоинженерии, Эндрю Джейич с кафедры физики, Сумита Пеннатур с кафедры машиностроения и Андреа Янг с кафедры физики. Муди отметил, что этот грант позволит UCSB занять лидирующие позиции в области инструментов, которые всё ещё остаются редкостью в академических кругах США; в настоящее время лишь несколько университетов страны располагают оборудованием с подобными функциями.
По мнению команды, данное оборудование восполняет пробелы в существующих методах обработки. В заявке указывается, что современные инструменты для нанопроизводства, хотя и позволяют осуществлять плоскостное (двумерное) изготовление полупроводников, диэлектриков и металлов на уровне пластин с разрешением около десяти нанометров, уже приближаются к своему пределу; для создания всё более востребованных трёхмерных микроструктур часто требуются дополнительные сложные и трудоёмкие этапы. Муди пояснил, что традиционные литографические технологии могут переносить рисунок только на плёнки толщиной в несколько сотен нанометров, практически не оставляя пространства для построения в вертикальном измерении.
В отличие от ранних аддитивных систем, создающих трёхмерные объекты путём послойного наложения тонких слоёв, новая система позволяет напрямую печатать микроструктуры на чипе в истинно трёхмерном виде. Уникальные возможности этой системы открывают новые пути для нано- и микропроизводства сложных структур и устройств, больше не ограниченных геометрическими формами или двумерной плоскостью. Типичной областью применения является квантовая фотоника, где потери света при переходе из чипа в оптоволокно являются давней проблемой. Данное оборудование позволяет печатать полимерные линзы шириной менее 50 микрон на краю чипа или на оптоволокне для оптимизации оптических мод, минимизируя потери света в процессе сопряжения.
