Корейский институт машин и материалов разрабатывает интеллектуальную систему на основе ИИ для двумерных полупроводников

Репортаж от Wedoany，Корейский институт машин и материалов (KIMM) впервые разработал технологию, позволяющую анализировать и контролировать двумерные полупроводники на атомном уровне (1–2 нм) с помощью искусственного интеллекта (ИИ). Данная технология направлена на значительное повышение воспроизводимости и производительности процессов.

17 числа Корейский институт машин и материалов объявил, что исследовательская группа Центра исследований полупроводникового оборудования под руководством старшего научного сотрудника Ким Хён У (Kim Hyung-woo) с использованием оборудования PECVD (плазмохимическое осаждение из газовой фазы) и RIE (реактивное ионное травление) на основе низкотемпературной плазмы разработала процессы синтеза и травления для 6-дюймовых двумерных полупроводников следующего поколения (MoS₂, WS₂) и успешно интегрировала эти процессы в интеллектуальную систему на основе ИИ.

В ходе процесса исследовательская группа в реальном времени измеряла изменения в генерируемом свете и массе газа, а затем анализировала их с помощью машинного обучения для прогнозирования состояния процесса. Команда также использовала различные устройства диагностики в реальном времени (OES, ToF-MS, QMS и др.) для получения многомерных временных рядов данных, которые применялись в моделях машинного обучения, что позволило успешно достичь прогнозирования толщины полупроводника с точностью до атомного уровня.

Данная технология основана на низкотемпературном плазменном процессе и эффективно совместима с существующим производственным оборудованием. Она позволяет выполнять атомно-слоевое травление в рамках единого процесса, обеспечивая при этом эффективность и производительность. Старший научный сотрудник Ким Хён У отметил, что достижение атомного уровня в процессе обработки двумерных полупроводников на 6-дюймовых пластинах в условиях низких температур имеет большое значение. Он планирует в будущем развить эту технологию в ключевую для автоматизации и интеллектуализации процессов производства полупроводников следующего поколения.

Данный материал скомпилирован платформой Wedoany. При цитировании материалов, созданных с помощью искусственного интеллекта (ИИ), необходимо обязательно указывать источник — «Wedoany». В случае выявления нарушения прав или иных проблем просим своевременно информировать нас. Сайт оперативно внесёт изменения или удалит материал.Электронная почта: news@wedoany.com