Южнокорейская SK Hynix досрочно поставила образцы 12-слойной HBM4E
2026-06-21 11:42
В избр.

Репортаж от Wedoany,Полупроводниковая компания SK Hynix 18 июня объявила, что досрочно предоставила клиентам образцы 12-слойной продукции HBM4E — это седьмое поколение высокопроизводительной памяти (HBM), использующей шестое поколение 10-нанометровой 1c DRAM.

SK Hynix поставила образцы 12-слойной HBM4E раньше запланированного срока. (Источник изображения: SK Hynix)

В SK Hynix отметили, что опыт массового производства и поставок HBM3, HBM3E и HBM4 заложил основу для ускоренной разработки новых продуктов. Компания будет тесно сотрудничать с ключевыми клиентами, чтобы обеспечить своевременное массовое производство и устранить узкие места передачи данных в системах ИИ. Данная поставка образцов произошла раньше плана, озвученного компанией на телефонной конференции по итогам первого квартала в апреле этого года, — тогда сообщалось о предоставлении образцов HBM4E во втором полугодии.

HBM4E превосходит предыдущее поколение HBM4 по производительности и энергоэффективности, в основном за счет усовершенствования основных кристаллов DRAM, архитектуры интерфейса и производственного процесса. В этом продукте впервые в HBM применена 1c DRAM шестого поколения с 10-нанометровым техпроцессом, тогда как предыдущие поколения (включая HBM4) использовали 1b DRAM пятого поколения. Емкость каждого основного кристалла увеличена: используются кристаллы DRAM объемом 32 Гбит (4 ГБ), что на 50% выше плотности HBM4. 12-слойная укладка обеспечивает общий объем памяти 48 ГБ, в то время как 12-слойная укладка HBM4 с кристаллами 24 Гбит (3 ГБ) имеет емкость 36 ГБ.

Количество контактов ввода/вывода (I/O) остается 2048, но скорость передачи данных на каждый контакт достигает 16 Гбит/с, что на 45% выше предыдущего диапазона 11–13 Гбит/с. Одна укладка обеспечивает пропускную способность около 4 ТБ/с, что, по оценкам отрасли, на 40–50% выше, чем у HBM4. Энергоэффективность также повышена более чем на 20%, что способствует улучшению производительности рабочих нагрузок обучения и вывода ИИ.

В SK Hynix заявили, что HBM4E благодаря обновленному интерфейсу и оптимизации конструкции снижает задержки передачи данных, обеспечивая стабильную работу в средах высокопроизводительных вычислений. Ожидается, что этот продукт повысит эффективность обработки данных в центрах обработки данных ИИ нового поколения и крупномасштабных вычислительных системах. Компания не раскрыла спецификации базового кристалла; отраслевые источники полагают, что SK Hynix использует 3-нанометровый техпроцесс TSMC для изготовления базового кристалла HBM4E с целью повышения производительности и энергоэффективности, тогда как предыдущие поколения базовых кристаллов изготавливались по 12-нанометровому техпроцессу TSMC. Базовый кристалл служит управляющим слоем HBM, отвечая за операции чтения/записи данных, коррекцию ошибок и другие функции, влияющие на производительность и надежность.

HBM4E использует передовой процесс упаковки MR-MUF (массовый переток с заливкой подложки) для 12-слойной укладки, применяя эпоксидный компаунд (EMC) с улучшенными тепловыми свойствами в качестве связующего материала между кристаллами DRAM. Этот материал сначала соединяется с помощью высокотемпературного перетока, а затем окончательно монтируется с использованием тепла и давления системы термокомпрессионной сварки. В SK Hynix отметили, что по сравнению с HBM4 оптимизация процесса MR-MUF повысила структурную стабильность и снизила тепловое сопротивление примерно на 17%, что обеспечивает более надежную работу в средах высокопроизводительных вычислений.

Президент и главный директор по разработкам (CDO) SK Hynix Ан Хён (Ahn Hyun) заявил: «HBM4E объединяет накопленный технический опыт и производственные возможности SK Hynix, закладывая основу для дальнейшего лидерства в инновациях ИИ. Вместе с партнерами мы будем активно предоставлять ценность, востребованную рынком, и укреплять технологическое лидерство в качестве поставщика полноценной памяти для ИИ».

Samsung Electronics также 29 мая поставила клиентам образцы 12-слойной HBM4E. Этот продукт также основан на 32-Гбит 1c DRAM, а базовый логический кристалл изготовлен по 4-нанометровому техпроцессу Samsung. В Samsung заявили, что этот процесс уже достиг достаточного уровня выхода годных и готовности к производству, и начнут массовый выпуск в соответствии с графиком клиентов. По мере ускорения спроса на память ИИ следующего поколения ожидается, что обе компании будут активно бороться за контракты на производство HBM4E.

Данный материал скомпилирован платформой Wedoany. При цитировании материалов, созданных с помощью искусственного интеллекта (ИИ), необходимо обязательно указывать источник — «Wedoany». В случае выявления нарушения прав или иных проблем просим своевременно информировать нас. Сайт оперативно внесёт изменения или удалит материал.Электронная почта: news@wedoany.com

Связанные продукты
Связанные рекомендации
Тайская компания True Corp запускает проект по созданию центра квантовых вычислений в Юго-Восточной Азии
2026-06-21
Программа немецкого спутника связи с расширенным обзором и коммуникацией Reflex Aerospace
2026-06-21
Американская компания Kestrel Labs представила платформу для обеспечения соответствия нормативным требованиям Revit и привлекла финансирование в размере 2,15 миллиона долларов
2026-06-21
PTC представляет 12 AI-агентов и облачные решения для британских производителей
2026-06-21
Американская компания Architect Labs привлекла $24 млн в рамках посевного раунда финансирования
2026-06-21
Американские компании NVIDIA и Coherent инвестируют 2 миллиарда долларов в строительство завода по производству ИИ
2026-06-21
Сирийская телекоммуникационная компания восстанавливает подводный кабель, вводя в эксплуатацию систему «Угарит» и турецкую линию пропускной способностью 1 Тбит/с
2026-06-21
Девятый форум Университета Гуарульюс (Бразилия) сосредоточится на искусственном интеллекте в научных исследованиях
2026-06-21
Firmus планирует построить в Тасмании (Австралия) центр обработки данных мощностью 288 МВт
2026-06-21
ZenaTech запускает платформу агентного ИИ Zoo Office, ориентированную на корпоративную производительность
2026-06-21
Последние новости
1
Южноафриканская компания GridCars установит зарядные станции для грузовиков на трех площадках
2
Bechtel получила контракт на $4,69 млрд на расширение Sabine Pass LNG в США
3
Солнечный проект AMEA Power мощностью 120 МВт в ЮАР первым введен в эксплуатацию
4
Индийские компании N.A.N. GreenMet и Silox построят завод по переработке аккумуляторов мощностью 40 000 тонн
5
BDEW Германии предлагает 12 рекомендаций по расширению электросетей
6
Североафриканские страны ускоряют развитие возобновляемой энергетики: Тунис ставит цель достичь 50% доли ВИЭ к 2035 году
7
Японская Honda и американская QuantumScape сотрудничают в разработке твердотельных аккумуляторов
8
Общая установленная мощность фотоэлектрических систем на Mercamadrid в Мадриде достигла 660 кВт
9
Южноафриканское совместное предприятие ZET ищет подрядчика EPC для терминала СПГ
10
RWE ввела в эксплуатацию три ветропарка во Франции общей мощностью 68,8 МВт