Репортаж от Wedoany，Компания PRINANO (璞璘科技) в сотрудничестве с LiCE Technology (力策科技) с использованием вакуумно-пневматического оборудования для наноимпринтной литографии (NIL) на уровне пластин PL-AS и соответствующих двухслойных импринтных материалов и процессов, полностью отказавшись от DUV-литографии, добилась массового производства 8-дюймовых оптических чипов на пластинах, при этом стоимость производства составляет всего одну десятую от традиционных DUV-литографических решений.

Установка PL-AS обеспечивает разрешение по ширине линии менее 10 нанометров, равномерность давления импринтинга по всей поверхности пластины с погрешностью в пределах 0,5%, поддерживает процесс импринтинга без остаточного слоя, а точность совмещения может быть настроена до уровня сотен нанометров в зависимости от требований. Оборудование совместимо с плоскими и изогнутыми подложками, а также может адаптироваться к жестким и гибким типам шаблонов.

По сравнению с традиционным методом вальцевания для NIL на уровне пластин, PL-AS использует метод приложения силы по всей поверхности, обеспечивая равномерное и одинаковое воздействие на каждый нанометровый элемент на поверхности пластины, что позволяет снизить отклонение RLT до менее 2 нанометров, а его пропускная способность также превосходит оборудование NIL от Canon, использующее пошаговый метод. PL-AS от PRINANO, будучи пневматическим оборудованием, имеет более простую общую конструкцию по сравнению с системами DUV-литографии, не требует дорогостоящих оптических модулей и может использовать композитные шаблоны с более длительным сроком службы — эти факторы в совокупности обеспечивают его значительное ценовое преимущество.

Данный материал скомпилирован платформой Wedoany. При цитировании материалов, созданных с помощью искусственного интеллекта (ИИ), необходимо обязательно указывать источник — «Wedoany». В случае выявления нарушения прав или иных проблем просим своевременно информировать нас. Сайт оперативно внесёт изменения или удалит материал.Электронная почта: news@wedoany.com