Шанхайская компания Shanghai Micro Electronics представила две модели литографических установок сухого типа для фронтальных процессов

Репортаж от Wedoany，6 ноября компания Shanghai Micro Electronics Equipment (Group) Co., Ltd. на Китайской национальной выставке в рамках 9-й Китайской международной выставки импорта представила модели SSC800 и SSB800 — две модели сканирующих проекционных литографических установок сухого типа для фронтальных процессов собственной разработки. Оба устройства реализуют соответственно KrF- и I-line-технологические маршруты и ориентированы на полупроводниковые производственные процессы от 110 нм и от 280 нм, демонстрируя технологическую платформу и компоновку ключевых систем отечественного литографического оборудования для фронтальных процессов.

Серия SSB800 использует I-line-литографическую технологию и ориентирована на зрелые техпроцессы от 280 нм, применяясь главным образом в производстве силовых полупроводников, аналоговых интегральных схем и микроэлектромеханических систем. Серия SSC800 использует KrF-литографическую технологию и ориентирована на техпроцессы от 110 нм, с акцентом на повышение точности экспонирования, контроля дисторсии и характеристик совмещения, и предназначена для участков полупроводникового производства с повышенными требованиями к размерам элементов и точности обработки.

Представленные модели выполнены в прозрачной рассечённой конструкции, демонстрирующей внутреннюю компоновку оптического тракта и электромеханических систем литографической установки. Соответствующая технологическая платформа объединяет высокоточный проекционный объектив и осветительную систему, высокоскоростной двойной столик для пластин и столик для фотошаблона, автоматическую систему транспортировки материалов, а также высокоточную сенсорную систему совмещения и горизонтирования; она построена по стандартизированной архитектуре сканирующих проекционных литографических установок сухого типа для фронтальных процессов и адаптирована соответственно к двум технологическим маршрутам — I-line и KrF.

Shanghai Micro Electronics сообщает, что её литографическое оборудование сухого типа для фронтальных процессов прошло собственную разработку по таким ключевым системам, как проекционная оптика, управление движением, столик для пластин, а также совмещение и горизонтирование. Компания раскрывает, что характеристики формирования изображения отечественного литографического оборудования сухого типа для фронтальных процессов уже приблизились к уровню передовых зарубежных аналогов, а точность совмещения и производительность продолжают повышаться.

Что касается применения на производственных линиях, компания заявляет, что несколько единиц литографического оборудования сухого типа для фронтальных процессов уже стабильно работают на серийных линиях китайских предприятий по производству логических чипов и чипов памяти, в совокупности обеспечив более 10 млн циклов фотолитографии пластин, а коэффициент эффективной работы оборудования превышает 92%.

Согласно раскрытой компанией информации, уровень локализации ключевых комплектующих соответствующих устройств превысил 90%, продукция прошла аттестацию и вступила в стадию масштабного серийного производства. Компания сообщает, что продаваемые устройства серий SSC800 и SSB800 построены на собственной платформе с двойным столиком для пластин, оснащены отечественным проекционным объективом с большой числовой апертурой, а ключевые показатели экспонирования и формирования изображения соответствуют уровню зарубежных аналогов.