Mitsubishi Chemical объявляет о выходе на рынок сверхвысокочистого коллоидного диоксида кремния для полупроводников, запуск производства на заводе в Кюсю в 2028 году

Репортаж от Wedoany，Корпорация Mitsubishi Chemical объявила о выходе на рынок сверхвысокочистого коллоидного диоксида кремния. Планируется построить новое производственное предприятие на заводе в Кюсю (площадка Фукуока) в городе Китакюсю, префектура Фукуока, с началом коммерческой эксплуатации в октябре 2028 года. Объем инвестиций в проект составит несколько миллиардов иен. Данный материал является ключевым сырьем для полировальных суспензий химико-механической планаризации (CMP) в полупроводниковой промышленности и используется для полировки поверхности кремниевых пластин и планаризации межсоединений.

Коллоидный диоксид кремния незаменим в производстве полупроводников. CMP — это ключевой процесс в изготовлении чипов, который сочетает химическое травление и механическую полировку для достижения нанометровой планаризации поверхности пластин. По мере постоянного уменьшения технологических норм и увеличения числа слоев в полупроводниковых процессах предъявляются чрезвычайно высокие требования к чистоте полировальных материалов, однородности частиц и контролю дефектов поверхности. Сверхвысокочистый коллоидный диоксид кремния, коммерциализируемый Mitsubishi Chemical, имеет чистоту уровня 6N (99,9999%), производится из сверхвысокочистого тетраметоксисилана по интегрированной технологии производства, что позволяет максимально снизить содержание примесей. Компания, опираясь на многолетний опыт в технологии производства синтетического кварца, может настраивать такие параметры частиц, как размер, плотность и форма, по требованию заказчика.

Сверхвысокочистый коллоидный диоксид кремния является крупнейшим по доле абразивом в CMP-суспензиях и широко применяется в финишной полировке крупных кремниевых пластин, полировке затворов из поликремния на переднем конце технологического процесса, полировке медных межсоединений и вольфрамовых контактов на заднем конце, а также в полировке при передовой сборке корпусов и других ключевых процессах. Мировой рынок долгое время монополизирован небольшим числом компаний, таких как японская Fuso Chemical, Evonik, Cabot и Nouryon. Mitsubishi Chemical ранее уже имела в портфеле продуктов для полупроводниковой отрасли синтетический кварцевый порошок и фоторезистные смолы, и выход в сегмент CMP-полировальных материалов позволит дальнейшему расширению ее ассортимента материалов для полупроводников.

Mitsubishi Chemical заявляет, что стремительное развитие генеративного искусственного интеллекта, центров обработки данных и высокопроизводительных вычислений будет устойчиво стимулировать спрос на полупроводники, а вместе с ним будет расти и потребность в высокочистом коллоидном диоксиде кремния для производства пластин. Данный проект соответствует ключевому направлению «Поддержка передовой обработки данных и связи» долгосрочной корпоративной стратегии «KAITEKI Vision 35». Как отмечает Nikkan Kogyo Shimbun, Fuso Chemical в настоящее время занимает значительную долю рынка сверхвысокочистого коллоидного диоксида кремния, а расширение спроса на полупроводники побуждает клиентов диверсифицировать каналы закупок, что и послужило основанием для решения Mitsubishi Chemical выйти в этот сегмент.