Evonik China модернизирует платформу для УФ-покрытий в Шанхае для обслуживания этикеток и антиадгезионной бумаги

Репортаж от Wedoany，Компания Evonik завершила модернизацию оборудования для УФ-отверждаемых покрытий в Инновационном парке в Шанхае, установив новую пятивалковую платформу для нанесения покрытий, специально предназначенную для этикеток и антиадгезионной бумаги.

Модернизированная система заменила прежнюю трёхвалковую машину, что позволяет приблизить условия лабораторных испытаний к современной промышленной производственной среде. Платформа в основном используется для тестирования рецептур, оптимизации процессов и масштабирования исследований — от ранней разработки до коммерциализации и производственной валидации.

Evonik отмечает, что пятивалковая конфигурация обеспечивает более высокую гибкость для конкретных проектов клиентов и позволяет точнее моделировать конфигурации линий нанесения покрытий, используемые производителями этикеток и антиадгезионной бумаги.

Платформа также оснащена блоком инертного УФ/LED-отверждения, позволяющим пользователям переключаться между режимами УФ- и LED-отверждения. Evonik подчёркивает, что новая функция отвечает растущему спросу отрасли на технологию LED-отверждения, которая по сравнению с традиционными системами позволяет снизить энергопотребление и повысить эксплуатационную эффективность.

Джаред Бендер (Jared Bender), руководитель направления «Сельское хозяйство и специальные продукты» бизнес-линии «Интерфейсы и полиуретановые добавки» Evonik, заявил, что эти инвестиции направлены на усиление поддержки клиентских проектов — от технико-экономического обоснования до производственной валидации.

Инновационный парк в Шанхае является частью глобальной инновационной сети Evonik по антиадгезионным покрытиям, которая также включает пилотные линии и лабораторные объекты в Эссене (Германия) и Ричмонде (штат Виргиния, США). Компания на протяжении более 40 лет непрерывно разрабатывает технологии УФ-отверждаемых антиадгезионных покрытий, включая свою серию продуктов TEGO® RC на основе силиконов.

Данный материал скомпилирован платформой Wedoany. При цитировании материалов, созданных с помощью искусственного интеллекта (ИИ), необходимо обязательно указывать источник — «Wedoany». В случае выявления нарушения прав или иных проблем просим своевременно информировать нас. Сайт оперативно внесёт изменения или удалит материал.Электронная почта: news@wedoany.com